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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

活动图片背景 该半导机构坐落于长四角地域,其主要生孩子899英寸和1299英寸晶圆,日废气排放口废的水量约2000吨。因此半导生孩子工艺流程僵化,废气营养成分五花八门且含各种难挥发化合物,机构本来的治理配套设施不了够满足逐步严厉的低能耗废气排放口标准,故的投资1000万元重建专业课程废气治理站。 工业废水组成成分及主要来源 该企业主工业废水核心划分为四种: 含氟废渣:主要来在于晶圆蚀刻、清洁工作工步,氟正离子酸度达到了2000mg/L; 设计焦化废水:来源光刻、成像等生产工艺,带有异丙醇、二甲苯等设计相转移催化剂,COD值在5000mg/L以内; 腐蚀性废水除理工艺:引起于冲洗和面除理过程,pH值跌涨大; 含铜废渣:产自真空电镀和金属件化学工业艺,铜阳离子氧浓度约150mg/L。 治理 加工过程流量 真对不同的规定性的生产废水,选用"各类持续+分质治疗+未端强度治疗"的组合起来技术: 含氟焦化废水治理 线: 有级有机化学沉积物:先污泥脱水氯化钙调低pH至6-7,加上入PAC和PAM斜板沉积池沉积物; 灵活性钝化铝过滤:有效确保氟正离子有机废气浓度调至8mg/L下例。 有机的化工废水外理线: 微电解法生理反应:铁碳塑料填料床预外理增长废水处理可生物化学性; UASB活性污泥的管式反应器:HRT=24h,COD删去率65%; MBR膜菌物表现器:进行PVDF中空中弹性纤维膜,冒水COD<50mg/L。 酸碱平衡焦化废水结合系统软件: 系统自动pH设定:依据优酷云监测网仪保持加酸加碱量; 水解酸化池沉淀物:弄掉中合有的悬屏物。 含铜废气处理系统方法处理: 普通机械析出自己:加药NaOH调准pH至9-10,构成氢腐蚀铜析出自己; 化合物交換:为了确保铜化合物浓度值<0.3mg/L。 高度外理模块: 嗅氧促进氧化还原反应氧化反应:进步挥发难分离充分物; 生物炭筛选:剔除清晰度和进样器严重有机废气; 红外光谱线清洗:狠抓出水出水微动物质量指标考核标准。 决定性疗效 活动启用后,出水量水质量安全可达到《手机化学工业水被污染源废气相关产生标准化》(GB 39731-2020)越来越废气产生规定值耍求,这里面氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。去年可避免氟化物废气产生约120吨,COD废气产生约400吨,出售水环境共享约40万吨。系统化自动化设备化情况高,启用直接费用保持在8.5元/吨水差不多。

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