杭州某光电器件电子器件生产精加工厂，晶圆精加工时候中造成含硅、氟的特定生产污废水 ，设计的处置规模较1200吨/日。生产污废水 营养成分很复杂，包含有纳米技术级硅科粒及氢佛酸，传统意义处置方式 不好合格。 化工废水部分及来历 包括生态破坏物 ：氢氧化铁硅（100-500nm粒度）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 來源制作工艺 ：晶圆刻蚀废污水（45%）、CMP化学反应机械环保设备制造抛光剂废污水（40%）、环保设备冲刷水（15%） 处理生产技术方法 信息化按照"药剂学沉淀物中+珍禽膜区分"科技途径： 钙盐析出 ：污泥脱水氯化钙去掉氟阳离子（导出CaF2沉积） 二沉池表现 ：pp斜管沉淀池剂实现了悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm管径膜截流微细颗粒物 反渗设计 ：脱盐率>98%，回收并率75% 蒸发掉凝结 ：浓水段满足氟化物零排污 终极成效 氟化物氧浓度：<8mg/L（超过地方一級要求10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水土资源共享使用率：70%在冷却水塔补充水分 危废处理变少：蒸馏残余物量较老式生产技术变少60%